ICP-MS干扰及其去除

ICP-MS是一种多功能和建立的痕量金属分析技术，用于从Li（原子质量7）到PPB，子PPB甚至PPT水平中的铀（原子质量7）到铀（原子质量250）的元素。然而，与任何其他痕量金属分析一样，ICP-MS也不是没有干扰的。

干扰类型

异交干扰

由于存在与样品溶液中的分析物元素相同的质量同位素的同位素的存在导致的同位素干扰结果。除了样品溶液中的元素外，还以消化酸或血浆气体中的杂质存在，并且可以有助于表征干扰。最简单的方法是通过测量来自分析物同位素的强度的干扰元件的强度来进行校正。

多元素或分子干扰

分子干扰是由于样品或基质离子与Ar的组合和其他基质元素，例如O，N，H，C，Cl等。由于它们的小质量，诸如Li，B或不受影响的光元素。

从\（^ 3 ^ 9k \）开始这种干扰对于分子物种（例如\（^ 3 ^ 9arh）和\（^ 2 ^ 3na ^ 1 ^ 6o \）而变得显着。同位素\（^ 5 ^ 6Fe，^ 3 ^ 9k \）和\（^ 4 ^ 0ca \）都可以干扰AR，O和N同位素。对于较高的元素，特别是镧系元素，由16个原子质量单位由于金属氧化物形成而导致的元素产生的聚原子干扰。由于AR与基质组分组合的大可能性，多原子干扰通常导致定期表的第一行的问题。不同制造商提供的碰撞电池已经减少甚至完全除去这种干扰。碰撞单元位于离子光学和质量分析仪之间。反应室内的四极杆用于去除多原子干扰。在诸如氨的碰撞单元内的受控反应将目的的分析物转化为另一种物种，导致移除干扰。

双重带电离子干扰

这种干扰是由双重带电同位素的存在产生的，其具有兴趣分析物的两倍。一个示例是来自\（^ 2 ^ 0 ^ 6pb ^ + \）的干扰，\（^ 1 ^ 0 ^ 3rh \）可能处于高pb浓度。碱性和稀土元素在更大程度上形成双重带电的离子。然而，幸运的是，这种干扰在AR等离子体中并不常见。

空间充电效果

带正电荷的离子的光束受到相互排斥的影响。在横向运动中丢失具有较低动量的较轻元素比较重的元素丢失。结果，低质量元件的敏感性在较重的质量元件存在下落下。一个例子是在高浓度的铀存在下损失锂的敏感性。另一方面，高浓度的锂不会抑制铀浓浓度。通过在减少较重元素的浓度下测量较轻的元件，可以最小化这种空间电荷效应。

在ICP-MS分析中的一般干扰中可以克服：